氧化锆陶瓷材(cai)料凭(ping)借自(zi)身(shen)优(you)点逐(zhu)步运(yun)用(yong)(yong)在(zai)电子商品领域，Z典型(xing)的(de)(de)是在(zai)手机背板(ban)和智能穿(chuan)戴上的(de)(de)应(ying)用(yong)(yong)。陶瓷表面处理(li)工艺中，抛光(guang)是非常重要的(de)(de)一环(huan)，但氧化锆陶瓷的(de)(de)高耐(nai)磨性和高硬度(du)导致(zhi)其抛光(guang)加(jia)工难度(du)较(jiao)大(da)。下面为大(da)家介(jie)绍7种陶瓷抛光(guang)方法。

一、机(ji)械抛光

机械抛(pao)(pao)光是靠切(qie)削或使(shi)材料(liao)表(biao)(biao)面(mian)发生塑性变形(xing)而去掉工(gong)(gong)(gong)件表(biao)(biao)面(mian)凸(tu)出部分得到平滑面(mian)的(de)抛(pao)(pao)光方法。一般使(shi)用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工(gong)(gong)(gong)操作为(wei)主。表(biao)(biao)面(mian)质量要求高(gao)的(de)可采(cai)用超精研抛(pao)(pao)的(de)方法。超精研抛(pao)(pao)是采(cai)用特制的(de)磨(mo)具，在含有磨(mo)料(liao)的(de)研抛(pao)(pao)液(ye)中，紧压在工(gong)(gong)(gong)件表(biao)(biao)加工(gong)(gong)(gong)表(biao)(biao)面(mian)上，作高(gao)速旋(xuan)转运动。

机械抛光(guang)的机理是靠楔(xie)形(xing)挤压和抛光(guang)液的反弹(dan)增加微切削作用和被加工材料的微塑性流动作用达到抛光(guang)效果。

由于陶(tao)瓷手机(ji)(ji)背板的厚度(du)较小，且机(ji)(ji)械(xie)抛光是(shi)直接接触，摩擦(ca)可能导致(zhi)工(gong)件(jian)出(chu)现(xian)应力变形，温(wen)(wen)度(du)过高还可能使得晶(jing)格组织破(po)坏，故在抛光过程中要注(zhu)意温(wen)(wen)度(du)的控制。

二、化学(xue)机(ji)械抛光（CMP）

利用抛(pao)光液腐蚀作(zuo)用和机械(xie)(xie)去除作(zuo)用的(de)(de)(de)复合效果(guo)进(jin)(jin)行抛(pao)光的(de)(de)(de)方法。其(qi)Z大特征(zheng)是(shi)粉(fen)(fen)末比加(jia)(jia)(jia)工(gong)物(wu)的(de)(de)(de)机械(xie)(xie)性质还软(ruan)，能够与加(jia)(jia)(jia)工(gong)物(wu)发生(sheng)(sheng)固相反应。在其(qi)与通常(chang)的(de)(de)(de)抛(pao)光进(jin)(jin)行同样的(de)(de)(de)滑(hua)动运动时(shi)，粉(fen)(fen)末与加(jia)(jia)(jia)工(gong)物(wu)局(ju)部接触点上产生(sheng)(sheng)机械(xie)(xie)-化学效应的(de)(de)(de)微(wei)小反应部分由于摩擦(ca)力而发生(sheng)(sheng)脱落，加(jia)(jia)(jia)工(gong)得以进(jin)(jin)行。

要获(huo)得品(pin)质(zhi)好的抛(pao)光(guang)(guang)片，必须使(shi)抛(pao)光(guang)(guang)过程中的化(hua)学腐蚀作用与机械(xie)磨削作用达到(dao)平(ping)衡。目(mu)前(qian)CeO2等(deng)软质(zhi)抛(pao)光(guang)(guang)液广泛用于(yu)陶瓷精密抛(pao)光(guang)(guang)。

三、超声波抛光

超(chao)声(sheng)(sheng)波(bo)抛(pao)(pao)光是将工件放入磨(mo)料悬浮液(ye)中并一(yi)起置于(yu)超(chao)声(sheng)(sheng)波(bo)场中，依(yi)靠超(chao)声(sheng)(sheng)波(bo)的(de)震荡作用(yong)(yong)，使研料在工件表面(mian)磨(mo)削抛(pao)(pao)光。其主要(yao)作用(yong)(yong)是磨(mo)粒在超(chao)声(sheng)(sheng)振动下，以很大的(de)速度(du)和加速度(du)不断撞击加工表面(mian)，对加工表面(mian)的(de)微(wei)凸(tu)部分进行微(wei)切削加工，从而达到(dao)抛(pao)(pao)光的(de)目的(de)。

超声加(jia)工(gong)对(dui)各种结构陶瓷、石墨等硬脆材(cai)料(liao)都可(ke)以进行加(jia)工(gong)，其加(jia)工(gong)效率随着材(cai)料(liao)脆性的增大而提高(gao)。而且工(gong)具对(dui)工(gong)件的作(zuo)用力和热影响(xiang)较小，不(bu)产(chan)生变(bian)形(xing)、烧伤(shang)、变(bian)质层。设备简(jian)单，使用维修方便，操作(zuo)容易，成本较低。

四、电泳抛(pao)光

将电泳(yong)现象应用于(yu)陶瓷(ci)工件的(de)(de)(de)一种非接触(chu)无损抛光方法。由于(yu)没(mei)有外加载荷，脆硬(ying)性陶瓷(ci)材料的(de)(de)(de)去除全(quan)部依赖粒子的(de)(de)(de)碰撞和 微(wei)(wei)切削来(lai)实现;连续的(de)(de)(de)碰撞和微(wei)(wei)切削使陶瓷(ci)表面局部发(fa)生微(wei)(wei)疲劳剥落和极(ji)细微(wei)(wei)的(de)(de)(de)犁削。

五(wu)、流体抛(pao)光(guang)

依靠流(liu)动(dong)的(de)液体及其携带的(de)磨(mo)粒(li)冲刷工(gong)件表面达到(dao)抛光(guang)(guang)的(de)目的(de)。不但可(ke)以进(jin)行光(guang)(guang)整加(jia)工(gong)还(hai)可(ke)以去除毛刺，效果非(fei)常好，流(liu)体动(dong)力研磨(mo)是由(you)液压驱动(dong)，介质主要(yao)采用(yong)较低压力下流(liu)过(guo)性(xing)好的(de)特殊化合(he)物并掺入磨(mo)料制成(cheng)，磨(mo)料可(ke)采用(yong)碳化硅粉(fen)末。

六、磁研磨抛光

磁研(yan)磨(mo)(mo)抛光(guang)是(shi)利用磁性(xing)(xing)磨(mo)(mo)料(liao)在磁场作用下形(xing)成柔(rou)性(xing)(xing)磨(mo)(mo)料(liao)刷，与工(gong)(gong)件(jian)相对(dui)运动，产生(sheng)切削、刻划、滑擦、挤压和滚动等现象，对(dui)工(gong)(gong)件(jian)研(yan)磨(mo)(mo)抛光(guang)。这种方法加工(gong)(gong)效率高(gao)，质量好，加工(gong)(gong)条件(jian)容(rong)易(yi)控制。

七、磁(ci)研磨抛光

磁(ci)研(yan)磨(mo)抛光是利用磁(ci)性磨(mo)料(liao)在(zai)磁(ci)场作用下形成柔性磨(mo)料(liao)刷，与工(gong)件(jian)相对(dui)(dui)运动，产生切(qie)削、刻划、滑擦、挤压和(he)滚(gun)动等(deng)现(xian)象，对(dui)(dui)工(gong)件(jian)研(yan)磨(mo)抛光。这种方法加(jia)工(gong)效率高，质量好，加(jia)工(gong)条(tiao)件(jian)容易控制。