氧化锆陶瓷(ci)浮动抛(pao)光法(fa)

　　当氧化锆陶瓷工(gong)件与(yu)研(yan)具作(zuo)高(gao)速相对(dui)运动时(shi)，由于抛光(guang)液(ye)的(de)(de)流体动压效应(ying)使工(gong)件微(wei)(wei)量浮起与(yu)研(yan)具脱离接(jie)触，液(ye)膜中(zhong)的(de)(de)微(wei)(wei)细(xi)软磨料与(yu)工(gong)件外(wai)层表(biao)(biao)面(mian)的(de)(de)原(yuan)子相互(hu)扩散(san)，降(jiang)低了(le)工(gong)件最外(wai)层表(biao)(biao)面(mian)的(de)(de)原(yuan)子结合能，因而能被磨粒(li)粒(li)子冲击(ji)去除，达(da)到光(guang)整工(gong)件表(biao)(biao)面(mian)而又(you)不致产生表(biao)(biao)层晶(jing)体的(de)(de)错位。

　　虽氧化(hua)锆陶瓷加工效(xiao)率较低(di)，但(dan)是(shi)一种可(ke)获(huo)得极高(gao)的(de)平面(mian)度，而又没有端面(mian)塌边和变形(xing)缺陷的(de)高(gao)表面(mian)质(zhi)量的(de)超(chao)精密加工方法。